该款三通道单温区CVD系统由 3路供气系统+单温区管式炉+抽气系统组成！ CVD系统是在单温区管式炉，炉底(可选)配安装一对滑轨，可用手滑动。可以达到快速升降温的目的，为取得最快加热速率，可以预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品区。为获得最快冷却，可在样品加热后移动炉子到另一端。物料可以在真空或者惰性气体环境下的升温速率或降温速率达到100°C/s，是低成本快速热处理的理想炉子。
主要功能和特点：
1、高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成，最高真空可达0.0001Pa；
2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制；
3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的安全性和连续均匀性。
4、采用KF快速法兰密封，装卸方便快捷；管路采用世界顶级Swagelok卡套连接，不漏气；
5、超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，使用安全可靠。
